退火爐是一種用于制造半導(dǎo)體器件的工藝，包括加熱若干半導(dǎo)體晶片以影響其電性能。熱處理是為不同的效果而設(shè)計(jì)的。可以加熱晶片以激發(fā)摻雜劑，將薄膜轉(zhuǎn)換成薄膜或薄膜轉(zhuǎn)換成晶片襯底界面，從而可以改變密集沉積的薄膜，可以恢復(fù)生長的薄膜，可以修改注入的損壞，可以移動(dòng)摻雜劑或?qū)诫s劑從襯底上轉(zhuǎn)移。M薄膜到另一薄膜或從薄膜到晶片襯底。

　　退火爐可以集成到其他爐處理步驟中，例如氧化，或者可以自行處理。退火爐是為半導(dǎo)體晶片加熱而設(shè)計(jì)的設(shè)備。退火爐是一種具有節(jié)能結(jié)構(gòu)和纖維結(jié)構(gòu)的節(jié)能周期運(yùn)行爐，節(jié)電60%。

退火爐的產(chǎn)品特點(diǎn)：

　　1、無噪聲，無環(huán)境污染。

　　2、蓄熱性小，熱量流失少。

　　3、控溫精度高，爐溫均勻度高。

　　4、自動(dòng)化程度高，操作簡單。

　　5、可采用PID編程設(shè)定，全自動(dòng)運(yùn)行。

　　6、密封性好，使用壽命久。

　　應(yīng)用于化工、石油、食品、冶金、機(jī)械、輕工、電力、船舶、造紙、礦山、集中供熱等工業(yè)部門。隨著社會(huì)生產(chǎn)力的發(fā)展，其在各行業(yè)中的應(yīng)用越來越廣。